说起芯片制造，这两年每每提及，都是国人心中的痛！
芯片制造离不开两大技术基础，一为芯片制造设备，比如大家都知道的光刻机！人家不进口我们，我们就没有办法造出芯片来。另一技术，就是造芯片要用的材料，其实我们也做不出来！这点，可能很多人并没有留意！
今天来重点说说光刻胶，这个造芯片必备的材料！以及我国光刻胶领域领先的公司和大学。
一、光刻胶是什么？
来源：高禾投资研究中心
这张图比较简洁地说明了光刻胶的作用。
在制造芯片时，先要给晶圆上涂上胶，如图（1）（2）步所述。
然后在光刻胶上面，铺一层掩模板，经过曝光、显影、腐蚀，去胶，如（3）-（7），使得光刻胶选择性的曝光，再用“光”在掩模板没有遮住的部分“刻”上。（这个基本上就是芯片制造，pcB板和电子显示面板的制作过程），接下来便是将金属“填”进镂空位置，使之“长”在晶片表面；
光刻工艺是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术！
没有光刻胶，就是有“光刻机”也没有办法！
二、光刻胶，我们到底落后多少？
据有关研究机构统计，我国光刻胶国产化程度均低于10%。中高端光刻胶市场，基本上被日本、韩国和美国厂商所占据！如下图所未，高端的基本被日美企业垄断！
来源：高禾投资研究中心
不同的电子产品，电子元器件，需要不同的光刻胶！目前我们主要能生产的是PCB光刻胶，而面板光刻胶、半导体光刻胶，基本上市场占有率非常低！根据中国产业信息网数据，从下游市场应用结构来看，2018 年我国 PCB 光刻胶产值占比为 94.4%，而 LCD 和半导体用光刻胶产值占比分别仅为 2.7%和 1.6%。
光刻胶，主要由溶剂、树脂、光敏剂为主要原料！
值得一提的是：
不要说光刻胶，就连这些原料，我们都没有办法完全造出来！
三、国内目前光刻胶产业链中领先的公司
光刻胶的波长由紫外宽谱向 g 线（436 纳米）、i 线（365 纳米）、KrF（248 纳 米）、ArF（193 纳米）、EUV（13.5 纳米）的方向转移，曝光波长越短，精度越高，难度越大。
四、国内光刻胶研究领先的大学
生化环材，四大天坑！
我们做惯了低端材料，导致材料专业毕业的人，大都在低端、利润薄的行业中找不到发展的路，工资待遇低，改行不干的多！
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几方面的因素，导致目前中国光刻胶相关企业的专业人才储备不足。
下面推荐的大学，在国内光刻胶领域研究中，占有一席之地，并且与上述光刻胶前沿公司有着非常紧密的合作，感兴趣的考生可以重点关注：
1、北京化工大学、北京师范大学、清华大学
2009年12月，由北京科华微电子材料有限公司牵头，联合了清华大学、中科院微电子所、中科院化学所、北师大、北京化工大学、中芯国际、北京化学试剂研究所及中电集团公司第13研究所等国内一流的高校与院所的高档光刻胶产学研联盟。
2、苏州大学、南京工业大学、南开大学
晶瑞股份建立了国家级CNAS检测实验室，江苏省集成电路专用精细化学品工程技术研究中心、江苏省企业技术中心。与苏州大学、南京工业大学、南开大学等国内知名大学长期保持产学研合作，被评为电子化工材料专业前10强企业。
3、南京大学
光刻胶龙头之一南大光电是南京大学于2000年以MO源技术成果转化形成的高科技企业，MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料和光刻胶是这个公司的四大业务板块。
4、山东大学、河南工业大学
2018年10月，山东大学材料科学与工程学院与山东圣泉新材料股份有限公司成立产学研合作基地。
河南工业大学与山东圣泉公司，也有产学研合作。
5、北京化工大学
常州强力电子新材料股份有限公司与北京化工大学常州先进材料研究院2010年就开始合作。
6、中国电子化工新材料产业联盟
这一联盟是在2015年成立的，联盟整合了国内电子化工新材料与产业应用链上的相关研发、生产、应用企业等优势资源。目前一共有9家大学研究机构。
清华大学化学系、中国科学院化学研究所、北京化工大学、华东理工大学、衢州学院这些大学和研究所位列其中。
五、勋哥建议
1、我国的化工、材料产业，中高端的不多，所以工资水平不高，选择这个专业，要有定力，对待遇期望值不要太高。
化工材料，前途是光明的，道路是曲折的。
2、上文列举的是与头部企业有合作关联的部分大学，选择这些大学，进入自己感兴趣的光刻胶行业，相对会更有优势。
3、还有一些大学实力也是非常不错的。比如浙江大学、复旦大学等，也有相关的国家重点实验室。大家可以根据自身成绩，结合自身定位，进行选择。
六、参考资料
1、高禾投资研究中心研报
2、南京大学官网
3、中国电子化工新材料产业联盟官网
4、华泰证券研报
5、中国产业信息网
注：文章内容系本人原创，转载须经本人同意，违者必究。
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